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場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU9000

簡要描述：專門為電子束敏感樣品和需最大300萬倍穩(wěn)定觀察的先進半導體器件，高分辨成像所設計。

  • 更新時間：2025/3/27 12:21:29
  • 訪  問  量：7218
  • 產(chǎn)品型號：SU9000
詳細介紹

特色

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新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)

用改良的高真空性能和無與倫比的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。

采用全新設計的Super E x B能量過濾技術，高效，靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。

 


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